| 公開日期 | 題名 | 作者 | 關聯 | scopus | WOS | 全文 |
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| 2012 | Effect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH4 plasma at low temperature | D. Das; D. Raha; W. C. Chen; K. H. Chen; C. T. Wu; L. C. Chen | JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 27, 1303 |
