Annealing effects on forming nickel silicide film prepared by MEVVA ion implantation

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題名:	Annealing effects on forming nickel silicide film prepared by MEVVA ion implantation
作者:	Hsu, J. Y. Liang, J. H.
公開日期:	2005
關聯:	Nuclear Instruments and Methods in Phys. Research B241, 543-547
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/47257
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