http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/34491| 題名: | MBE Grown High k Gate Dielectrics of HfO2 and (Hf-Al)O2 for Si and III-V Semiconductors Nano-electronics | 作者: | Lee, W. G. Lee, Y. J. Wu, Y. D. Chang, P. Hsu, Y. L. Chen, C. P. Mannaerts, J. P. Maikap, S. Liu, C. W. Lee, L. S. Hsieh, W. Y. Tsai, M. J. Lin, S. Y. Lo, R. L. Hong, M. Kwo, J. |
公開日期: | 2004 | 會議: | MBE-Taiwan, 2004 (國立中山大學 : 國立中山大學) | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/34491 |
| 顯示於： | 應用科學研究中心 |
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