http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/34709| 題名: | Utilizing Sub-5 nm Sidewall Electrode Technology for Atomic-Scale Resistive Memory Fabrication | 作者: | Kai-Shin Li ChiaHua Ho Ming-Taou Lee Min-Cheng Chen Cho-Lun Hsu J. M. Lu C. H. Lin C. C. Chen B. W. Wu Y. F. Hou C. Yi. Lin Y. J. Chen T. Y. Lai M. Y. Li I. Yang C. S. Wu Fu-Liang Yang |
公開日期: | 2014-06-09 | 會議: | Symposium on VLSI Technology (HONOLULU, USA : IEEE) | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/34709 |
| 顯示於： | 應用科學研究中心 |
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