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  1. Scholars Hub of the Academia Sinica
  2. 數理科學組
  3. 原子與分子科學研究所
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/43995
題名: Growth of High-Quality Epitaxial InN Film with High-Speed Reactant Gas by Organometallic Vapor-Phase Epitaxy
作者: Yang, Fu-Hsiang
Hwang, Jih-Sheng
Yang, Ying-Jay
Chen, Kuei-Hsien 
Wang, Jih-Hsiang
公開日期: 2002-11
關聯: Japanese Journal of Applied Physics 41(11B):L1321
URI: http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/43995
ISSN: http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=0021-4922&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT
URL: http://dx.doi.org/10.1143/jjap.41.l1321
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