Silicon Carbon Nitride Films Deposited by ECR CVD

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題名:	Silicon Carbon Nitride Films Deposited by ECR CVD
作者:	Chen, K. H. Wu, J. J. Wen, C. Y. Chen, L. C. Fan, C. W. Kuo, P. F. Chen, Y. F. Huang, Y. S.
公開日期:	1999
關聯:	State-0f-the-Art Program on Compound Semiconductors XXX, 99, 13-24, Ed. C.R. Abernathy et al.
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/44142
顯示於：	原子與分子科學研究所

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