The Photodissociation Dynamics of Hexafluoropropene Examined at 193 nm

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題名:	The Photodissociation Dynamics of Hexafluoropropene Examined at 193 nm
作者:	C. A. Longfellow L. A. Smoliar Y. T. Lee Y. R. Lee C. Y. Yeh S. M. Lin
公開日期:	1997
關聯:	Chem. Phys. Lett. 271, 33-39
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/44576
ISSN:	http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=0009-2614&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT
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