Full-field hard x-ray microscopy below 30 nm: a challenging nanofabrication achievement

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題名:	Full-field hard x-ray microscopy below 30 nm: a challenging nanofabrication achievement
作者:	Hwu, Yeu-Kuang
公開日期:	2008-08-01
關聯:	NANOTECHNOLOGY39(19),395302
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/46976
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