http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/78192| 題名: | Enhancing silicide formation in Ni/Si(111) by Ag-Si particles at the interface | 作者: | Cheng-Hsun-Tony Chang Pei-Cheng Jiang Yu-Ting Chow Hsi-Lien Hsiao Wei-Bin Su Jyh-Shen Tsay |
公開日期: | 2019-06-20 | 關聯: | SCIENTIFIC REPORTS 9, 8835 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/78192 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=2045-2322&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
| 顯示於： | 物理研究所 |
在 IR 系統中的文件，除了特別指名其著作權條款之外，均受到著作權保護，並且保留所有的權利。
