Skip navigation
  • 中文
  • English

DSpace CRIS

  • DSpace logo
  • 首頁
  • 單位
  • 研究人員
  • 研究成果檢索
  • 計畫
  • 分類瀏覽
    • 單位
    • 研究人員
    • 研究成果檢索
    • 計畫
  • 學術出版
  • 登入
  • 中文
  • English
  1. Scholars Hub of the Academia Sinica
  2. 數理科學組
  3. 原子與分子科學研究所
請用此 Handle URI 來引用此文件: http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/81424
題名: Reaction-limited graphene CVD surpasses silicon production rate
作者: Chin, Hao-Ting
Nguyen, Hai-Thai
Chen, Szu-Hua
Chen, Yi-Fang
Chen, Wei-Hung
Chou, Zhi-Yang
Chu, Yi-Hung
Yen, Zhi-Long
Ting, Chu-Chi
Hofmann, Mario
Hsieh, Ya-Ping 
公開日期: 2021-07
關聯: 2D Materials 8(3):035016
URI: http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/81424
ISSN: http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=2053-1583&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT
URL: http://dx.doi.org/10.1088/2053-1583/abf235
顯示於:原子與分子科學研究所

顯示文件完整紀錄

Page view(s)

66
上周
0
上個月
0
checked on 2025/6/9

Google ScholarTM

檢查


在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。

瀏覽
  • 學術出版
  • 單位
  • 研究人員
  • 研究成果檢索
  • 計畫
DSpace-CRIS Software Copyright © 2002-  Duraspace   4science - Extension maintained and optimized by NTU Library Logo 4SCIENCE 回饋